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Non-invasive nano-imaging of ion implanted and activated copper in silicon

Ballout, F.; Samson, J.S.; Schmidt, D.A.; Bründermann, E.; Mathis, Y.L.; Gasharova, B.; Wieck, A.D.; Havenith, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Synchrotronstrahlung (ISS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2011
Sprache Englisch
Identifikator DOI: 10.1063/1.3606415
KITopen ID: 110100633
HGF-Programm 55.51.10; LK 02
Erschienen in Journal of Applied Physics
Band 110
Seiten 024307/1-7
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