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Real-time X-ray diffraction imaging for semiconductor wafer metrology and high temperature in situ experiments

Danilewsky, A.N.; Wittge, J.; Hess, A.; Cröll, A.; Rack, A.; Allen, D.; McNally, P.; dos Santos Rolo, T.; Vagovic, P.; Baumbach, T.; Garagorri, J.; Elizalde, M.R.; Tanner, B.K.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Synchrotronstrahlung (ISS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2011
Sprache Englisch
Identifikator DOI: 10.1002/pssa.201184264
ISSN: 0031-8965, 1521-396X, 1862-6300, 1862-6319
KITopen ID: 110100643
HGF-Programm 55.51.10; LK 02
Erschienen in Physica status solidi / A
Band 208
Seiten 2499-2504
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