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A photolithographic approach to spatially resolved cross-linked nanolayers

Fuchise, K.; Lindemann, P.; Heißler, S.; Gliemann, H.; Trouillet, V.; Welle, A.; Berson, J.; Walheim, S.; Schimmel, T.; Meier, M.A.R.; Barner-Kowollik, C.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/la505011j
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Zitationen: 4
Web of Science
Zitationen: 4
Zugehörige Institution(en) am KIT Center for Functional Nanostructures (CFN)
Institut für Angewandte Materialien - Energiespeichersysteme (IAM-ESS)
Institut für Biologische Grenzflächen (IBG)
Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Organische Chemie (IOC)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0743-7463, 1520-5827
KITopen-ID: 110101081
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in Langmuir
Verlag American Chemical Society (ACS)
Band 31
Seiten 3242-3253
Nachgewiesen in Web of Science
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