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A photolithographic approach to spatially resolved cross-linked nanolayers

Fuchise, K. 1,2; Lindemann, P. 3; Heißler, S. 3; Gliemann, H. 3; Trouillet, V. 4; Welle, A. ORCID iD icon 5; Berson, J. 6,7; Walheim, S. 6,7; Schimmel, T. 6,7; Meier, M. A. R. 1,2; Barner-Kowollik, C. 5
1 Laboratorium für Applikationen der Synchrotronstrahlung (LAS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Organische Chemie (IOC), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
4 Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
5 Institut für Biologische Grenzflächen (IBG), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
6 Institut für Angewandte Physik (APH), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
7 Center for Functional Nanostructures (CFN), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/la505011j
Scopus
Zitationen: 4
Dimensions
Zitationen: 5
Zugehörige Institution(en) am KIT Center for Functional Nanostructures (CFN)
Institut für Angewandte Materialien – Energiespeichersysteme (IAM-ESS)
Institut für Biologische Grenzflächen (IBG)
Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Organische Chemie (IOC)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0743-7463, 1520-5827
KITopen-ID: 110101081
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in Langmuir
Verlag American Chemical Society (ACS)
Band 31
Seiten 3242-3253
Nachgewiesen in Dimensions
Scopus
Web of Science
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