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A photolithographic approach to spatially resolved cross-linked nanolayers

Fuchise, K.; Lindemann, P.; Heißler, S.; Gliemann, H.; Trouillet, V.; Welle, A.; Berson, J.; Walheim, S.; Schimmel, T.; Meier, M.A.R.; Barner-Kowollik, C.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/la505011j
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Zitationen: 3
Web of Science
Zitationen: 3
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Institut für Organische Chemie (IOC)
Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Biologische Grenzflächen (IBG)
Institut für Angewandte Materialien - Energiespeichersysteme (IAM-ESS)
Center for Functional Nanostructures (CFN)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0743-7463, 1520-5827
KITopen-ID: 110101081
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01)
Erschienen in Langmuir
Band 31
Seiten 3242-3253
Nachgewiesen in Web of Science
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