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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/la505011j
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Zitationen: 3
Web of Science
Zitationen: 3

A photolithographic approach to spatially resolved cross-linked nanolayers

Fuchise, K.; Lindemann, P.; Heißler, S.; Gliemann, H.; Trouillet, V.; Welle, A.; Berson, J.; Walheim, S.; Schimmel, T.; Meier, M.A.R.; Barner-Kowollik, C.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Biologische Grenzflächen (IBG)
Center for Functional Nanostructures (CFN)
Institut für Angewandte Materialien - Energiespeichersysteme (IAM-ESS)
Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Institut für Organische Chemie (IOC)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0743-7463, 1520-5827
KITopen ID: 110101081
HGF-Programm 43.23.01; LK 01
Erschienen in Langmuir
Band 31
Seiten 3242-3253
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