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Degradation mechanisms of polyfluorene-based organic semiconductor lasers under ambient and oxygen-free conditions

Brenner, P. 1; Fleig, L. M. 1,2; Liu, X. 1,3; Welle, A. ORCID iD icon 4,5; Bräse, S. 2,6; Lemmer, U. 1,3
1 Lichttechnisches Institut (LTI), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Institut für Organische Chemie (IOC), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
3 Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
4 Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
5 Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
6 Institut für Toxikologie und Genetik (ITG), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/polb.23733
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Zitationen: 18
Web of Science
Zitationen: 18
Dimensions
Zitationen: 18
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Institut für Organische Chemie (IOC)
Institut für Toxikologie und Genetik (ITG)
Universität Karlsruhe (TH) – Interfakultative Einrichtungen (Interfakultative Einrichtungen)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Karlsruhe School of Optics & Photonics (KSOP)
Lichttechnisches Institut (LTI)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0022-3832, 0098-1273, 0449-2951, 0449-2978, 0887-6266, 1099-0488, 1542-6238, 1542-6246, 1542-9377
KITopen-ID: 110101175
HGF-Programm 43.22.03 (POF III, LK 01) Printed Materials and Systems
Erschienen in Journal of polymer science / B
Verlag John Wiley and Sons
Band 53
Seiten 1029-1034
Nachgewiesen in Web of Science
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