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Access to multiblock copolymers via supramolecular host-guest chemistry and photochemical ligation

Hirschbiel, Astrid F.; Konrad, Waldemar; Schulze-Sünninghausen, David; Wiedmann, Steffen; Luy, Burkhard; Schmidt, Bernhard V. K. J.; Barner-Kowollik, Christopher



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1021/acsmacrolett.5b00485
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Zitationen: 11
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Zitationen: 11
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Biologische Grenzflächen (IBG)
Institut für Organische Chemie (IOC)
Institut für Technische Chemie und Polymerchemie (ITCP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2161-1653
KITopen-ID: 110102060
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in ACS Macro Letters
Verlag American Chemical Society (ACS)
Band 4
Heft 10
Seiten 1062-1066
Nachgewiesen in Scopus
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