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Electric-field-induced switching from fcc to hcp stacking of a single layer of Fe/Ni(111)

Gerhard, L. 1; Peter, M. 2; Wulfhekel, W. 1,2
1 Institut für Nanotechnologie (INT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)
2 Physikalisches Institut (PHI), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2469-9950
KITopen-ID: 110102652
HGF-Programm 43.21.02 (POF III, LK 01) Quantum Properties of Nanostructures
Erschienen in Physical Review B
Verlag American Physical Society (APS)
Band 91
Heft 18
Seiten 184107/1-4
Nachgewiesen in Dimensions
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