Electric-field-induced switching from fcc to hcp stacking of a single layer of Fe/Ni(111)
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nanotechnologie (INT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Jahr | 2015 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 2469-9950 KITopen-ID: 110102652 |
| HGF-Programm | 43.21.02 (POF III, LK 01) |
| Erschienen in | Physical Review B |
| Band | 91 |
| Heft | 18 |
| Seiten | 184107/1-4 |
| Nachgewiesen in | Web of Science Scopus |