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Electric-field-induced switching from fcc to hcp stacking of a single layer of Fe/Ni(111)

Gerhard, L.; Peter, M.; Wulfhekel, W.

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Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2469-9950
KITopen-ID: 110102652
HGF-Programm 43.21.02 (POF III, LK 01) Quantum Properties of Nanostructures
Erschienen in Physical Review B
Verlag American Physical Society (APS)
Band 91
Heft 18
Seiten 184107/1-4
Nachgewiesen in Web of Science
Dimensions
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