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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1103/PhysRevB.91.184107
Web of Science
Zitationen: 1

Electric-field-induced switching from fcc to hcp stacking of a single layer of Fe/Ni(111)

Gerhard, L.; Peter, M.; Wulfhekel, W.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2469-9950
KITopen ID: 110102652
HGF-Programm 43.21.02; LK 01
Erschienen in Physical Review B
Band 91
Heft 18
Seiten 184107/1-4
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