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Polymer blend lithography for metal films: Large-area patterning with over 1 billion holes/inch²

Huang, C.; Förste, A.; Walheim, S.; Schimmel, T.

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Originalveröffentlichung
DOI: 10.3762/bjnano.6.123
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Zitationen: 10
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Zitationen: 10
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Zitationen: 8
Zugehörige Institution(en) am KIT Center for Functional Nanostructures (CFN)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2190-4286
KITopen-ID: 110102657
HGF-Programm 43.22.03 (POF III, LK 01) Printed Materials and Systems
Erschienen in Beilstein journal of nanotechnology
Verlag Beilstein-Institut
Band 6
Heft 1
Seiten 1205-1211
Nachgewiesen in Scopus
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