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Polymer blend lithography for metal films: Large-area patterning with over 1 billion holes/inch²

Huang, C.; Förste, A.; Walheim, S.; Schimmel, T.



Zugehörige Institution(en) am KIT Center for Functional Nanostructures (CFN)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator DOI: 10.3762/bjnano.6.123
KITopen ID: 110102657
HGF-Programm 43.22.03; LK 01
Erschienen in Beilstein Journal of Nanotechnology
Band 6
Seiten 1205-1211
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