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Diffuse-light all-solid-state invisibility cloak

Schittny, R.; Niemeyer, A.; Kadic, M.; Buckmann, T.; Naber, A.; Wegener, M.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1364/OL.40.004202
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Dimensions
Zitationen: 14
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Physik (APH)
Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0146-9592, 1071-2763, 1071-8842, 1539-4794
KITopen-ID: 110102852
HGF-Programm 43.23.01 (POF III, LK 01) Advanced Optical Lithography+Microscopy
Erschienen in Optics letters
Verlag The Optical Society of America (OSA)
Band 40
Seiten 4202-4205
Nachgewiesen in Dimensions
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