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Development and characterization of ultra high aspect ratio microstructures made by ultra deep X-ray lithography

Nazmov, V.; Reznikova, E.; Mohr, J.; Schulz, J.; Voigt, A.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator DOI: 10.1016/j.jmatprotec.2015.05.030
KITopen ID: 110103312
HGF-Programm 43.23.02; LK 01
Erschienen in Journal of Materials Processing Technology
Band 225
Seiten 170-177
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