KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz

Development and characterization of ultra high aspect ratio microstructures made by ultra deep X-ray lithography

Nazmov, V. 1; Reznikova, E. 1; Mohr, J. 1; Schulz, J. ORCID iD icon; Voigt, A.
1 Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.jmatprotec.2015.05.030
Scopus
Zitationen: 16
Web of Science
Zitationen: 14
Dimensions
Zitationen: 16
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0924-0136, 1873-4774
KITopen-ID: 110103312
HGF-Programm 43.23.02 (POF III, LK 01) X-Ray Optics
Erschienen in Journal of materials processing technology
Verlag Elsevier
Band 225
Seiten 170-177
Nachgewiesen in Dimensions
Web of Science
Scopus
Globale Ziele für nachhaltige Entwicklung Ziel 9 – Industrie, Innovation und Infrastruktur
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
KITopen Landing Page