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Local strain and defects in silicon wafers due to nanoindentation revealed by full-field X-ray microdiffraction imaging

Li, Z. J. 1; Danilewsky, A. N.; Helfen, L. 1; Mikulik, P.; Haenschke, D. 1; Wittge, J.; allen, D.; McNally, P.; Baumbach, T. 1
1 Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS), Karlsruher Institut für Technologie (KIT)


Originalveröffentlichung
DOI: 10.1107/S1600577515009650
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Zitationen: 7
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Zitationen: 7
Zugehörige Institution(en) am KIT ANKA - die Synchrotronstrahlungsquelle am KIT (ANKA)
Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0909-0495, 1600-5775
KITopen-ID: 110103995
HGF-Programm 56.03.20 (POF III, LK 01) Nanoscience a.Material f.Inform.Technol.
Weitere HGF-Programme 54.01.01 (POF III, LK 01) ps- und fs-Strahlen
Erschienen in Journal of synchrotron radiation
Verlag International Union of Crystallography
Band 22
Seiten 1083-1090
Nachgewiesen in Web of Science
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