KIT | KIT-Bibliothek | Impressum | Datenschutz
Originalveröffentlichung
DOI: 10.1107/S1600577515009650
Web of Science
Zitationen: 1

Local strain and defects in silicon wafers due to nanoindentation revealed by full-field X-ray microdiffraction imaging

Li, Z.J.; Danilewsky, A.N.; Helfen, L.; Mikulik, P.; Haenschke, D.; Wittge, J.; allen, D.; McNally, P.; Baumbach, T.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Photonenforschung und Synchrotronstrahlung (IPS)
ANKA - die Synchrotronstrahlungsquelle am KIT (ANKA)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0909-0495, 1600-5775
KITopen ID: 110103995
HGF-Programm 56.03.20; LK 01
Erschienen in Journal of synchrotron radiation
Band 22
Seiten 1083-1090
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page