Analysis of Amorphous Layers on Silicon by Backscattering and Channelling Effect Measurements
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Kernphysik (IAK) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 1970 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 120003323 |
| Erschienen in | Surface Science |
| Band | 22 |
| Seiten | 263-76 |
| Erscheinungsvermerk | KFK-1341 (Dezember 70) |