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Analysis of Amorphous Layers on Silicon by Backscattering and Channelling Effect Measurements

Meyer, O.; Gyulai, J.; Mayer, J.W.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Kernphysik (IAK)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 1970
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 120003323
Erschienen in Surface Science
Band 22
Seiten 263-76
Erscheinungsvermerk KFK-1341 (Dezember 70)
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