Enhanced Outdiffusion in Ion Implanted Silicon
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Kernphysik (IAK) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 1970 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 120003860 |
| Erschienen in | Physics Letters |
| Seiten | 387-88 |
| Erscheinungsvermerk | 31 A(1970) KFK-1341 (Dezember 70) |