Enhanced Diffusion and Out-Diffusion in Ion Implanted Silicon
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Kernphysik (IAK) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 1970 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 120003861 |
| Erschienen in | Journal of Applied Physics |
| Band | 41 |
| Seiten | 4166-74 |
| Erscheinungsvermerk | KFK-1341 (Dezember 70) |