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Enhanced Diffusion and Out-Diffusion in Ion Implanted Silicon

Meyer, O.; Mayer, J.W.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Kernphysik (IAK)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 1970
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 120003861
Erschienen in Journal of Applied Physics
Band 41
Seiten 4166-74
Erscheinungsvermerk KFK-1341 (Dezember 70)
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