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Evaluation of Silicon Nitride Layers of Various Composition by Backscattering and Channelling-Effect Measurements

Gyulai, J.; Meyer, O.; Mayer, J.W.; Rodriguez, V.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Kernphysik (IAK)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 1971
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 120003862
Erschienen in Journal of Applied Physics
Band 42
Seiten 451-56
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