Impurity Incorporation during rf Sputtering of Silicon Oxide Layers
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Kernphysik (IAK) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 1972 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 120006098 |
| Erschienen in | Physica status solidi (a) |
| Band | 14 |
| Seiten | 605-11 |
| Erscheinungsvermerk | KFK-1525 (April 72 - April 73) |