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X-ray-diffraction studies on He- and Ar-irradiated Nb₃Ge thin films

Pflueger, J.; Meyer, O.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Kernphysik (IAK)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 1979
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 120014203
Erschienen in Solid State Communications
Band 32
Heft 11
Seiten 1143-46
Erscheinungsvermerk Sonderdruck in KfK-3059 (September 80)
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