Diffusion measurement of implanted Sb into Si, using SiO₂ encapsulation

Kotai, E.; Nagy, T.; Meyer, O.; Gyulai, J.; Revesz, P.; Mezey, G.; Lohner, T.; Manuaba, A.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Angewandte Kernphysik (IAK)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	1980
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 120014794
Erschienen in	Radiation Effects
Band	47
Seiten	27-30