Pulsed electron-beam annealing of high-dose arsenic implanted silicon
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Angewandte Kernphysik (IAK) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 1980 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 120015073 |
| Erschienen in | Applied Physics |
| Band | 22 |
| Seiten | 385-88 |