KIT | KIT-Bibliothek | Impressum

Properties of disordered Mo₃Ge thin films with A15 structure

Lehmann, M.; Adrian, H.; Bieger, J.; Mueller, P.; Noelscher, C.; Saemann-Ischenko, G.; Haase, E.L.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Kernphysik (IAK)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 1981
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 120016178
Erschienen in Solid State Communications
Band 39
Seiten 145-48
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page