Properties of disordered Mo₃Ge thin films with A15 structure

Lehmann, M.; Adrian, H.; Bieger, J.; Mueller, P.; Noelscher, C.; Saemann-Ischenko, G.; Haase, E. L.

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seit 12.06.2019

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Angewandte Kernphysik (IAK)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	1981
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 120016178
Erschienen in	Solid State Communications
Band	39
Seiten	145-48