Diffusion of chromium in silicon during a Sirtl etching process at room temperature
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Nukleare Festkörperphysik (INFP) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 1983 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 120018564 |
| Erschienen in | Journal of Applied Physics |
| Band | 54 |
| Seiten | 1148-50 |