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Ion beam analysis of amorphous silicon films produced by magnetron sputtering

Turos, A.; Frey, H.; Meyer, O.; Mueller, W.; Pirrung, J.M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nukleare Festkörperphysik (INFP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 1984
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 120020357
Erschienen in Physica status solidi (a)
Band 83
Seiten 437-43
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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