Ion beam analysis of amorphous silicon films produced by magnetron sputtering

Turos, A.; Frey, H.; Meyer, O.; Mueller, W.; Pirrung, J. M.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Nukleare Festkörperphysik (INFP)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	1984
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 120020357
Erschienen in	Physica status solidi (a)
Band	83
Seiten	437-43