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Modellierung der Adsorption von Krypton und Xenon an Silicagel und Molekularsieb

Nagel, K.; Ammon, R. von


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Datenverarbeitung in der Technik (IDT)
Institut für Heiße Chemie (IHCH)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 1985
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 120022256
Erschienen in Chemie Ingenieur Technik
Band 57
Seiten 996-97
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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