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Mask making for synchrotron radiation lithography

Ehrfeld, W.; Glashauser, W.; Muenchmeyer, D.; Schelb, W.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Kernverfahrenstechnik (IKVT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 1987
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 120023012
Erschienen in Microelectronic Engineering
Band 5
Seiten 463-70
Erscheinungsvermerk Conf. 'Microcirciut Engineering', Interlaken, CH, September 23-25, 1986,(1986)
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