Mask making for synchrotron radiation lithography

Ehrfeld, W.; Glashauser, W.; Muenchmeyer, D.; Schelb, W.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Kernverfahrenstechnik (IKVT)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	1987
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 120023012
Erschienen in	Microelectronic Engineering
Band	5
Seiten	463-70
Erscheinungsvermerk	Conf. 'Microcirciut Engineering', Interlaken, CH, September 23-25, 1986,(1986)