Temperature dependence of the electric field gradient in HfF₄.HF.2H₂O

Thies, W. G.; Appel, H.; Heidinger, R.; Then, G.

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seit 12.06.2019

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Genetik und für Toxikologie von Spaltstoffen (IGT)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	1986
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 120023205
Erschienen in	Hyperfine Interactions
Band	30
Seiten	153-65