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Progress in deep-etch synchrotron radiation lithography

Ehrfeld, W.; Bley, P.; Goetz, F.; Mohr, J.; Muenchmeyer, D.; Schelb, W.; Baving, H. J.; Beets, D.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Kernverfahrenstechnik (IKVT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 1988
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 120024479
Erschienen in Journal of Vacuum Science and Technology B
Band 6
Seiten 178-82
Erscheinungsvermerk 31st Internat.Symp.on Electron, Ion, and Photon Beams, Woodland Hills, Calif., May 26-29, 1987
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