Progress in deep-etch synchrotron radiation lithography

Ehrfeld, W.; Bley, P.; Goetz, F.; Mohr, J.; Muenchmeyer, D.; Schelb, W.; Baving, H. J.; Beets, D.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Kernverfahrenstechnik (IKVT)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	1988
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 120024479
Erschienen in	Journal of Vacuum Science and Technology B
Band	6
Seiten	178-82
Erscheinungsvermerk	31st Internat.Symp.on Electron, Ion, and Photon Beams, Woodland Hills, Calif., May 26-29, 1987