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Resist technology for deep-etch synchrotron radiation lithography

Mohr, J.; Ehrfeld, W.; Muenchmeyer, D.; Stutz, A.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 1989
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 120024693
HGF-Programm 16.01.04; LK 01
Erschienen in Die Makromolekulare Chemie/Macromolecular Symposium Series
Band 24
Seiten 231-51
Erscheinungsvermerk First Meeting of the European Polymer Federation, European Symp.on Polymeric Materials, Lyon, F, September 14-18, 1987 Paper ED06
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