Resist technology for deep-etch synchrotron radiation lithography
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 1989 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 120024693 |
| HGF-Programm | 16.01.04 (Vor POF, LK 01) |
| Erschienen in | Die Makromolekulare Chemie/Macromolecular Symposium Series |
| Band | 24 |
| Seiten | 231-51 |
| Erscheinungsvermerk | First Meeting of the European Polymer Federation, European Symp.on Polymeric Materials, Lyon, F, September 14-18, 1987 Paper ED06 |