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Aufbau von Fertigungseinrichtungen fuer Masken fuer die Roentgentiefenlithografie

Muenchmeyer, D.; Ehrfeld, W.; Maner, A.; Schelb, W.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Kernverfahrenstechnik (IKVT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 1987
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 120025347
Erschienen in KfK-Nachrichten
Band 19
Seiten 180-91
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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