Aufbau von Fertigungseinrichtungen fuer Masken fuer die Roentgentiefenlithografie

Muenchmeyer, D.; Ehrfeld, W.; Maner, A.; Schelb, W.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Kernverfahrenstechnik (IKVT)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	1987
Sprache	Deutsch
Identifikator	KITopen-ID: 120025347
Erschienen in	KfK-Nachrichten
Band	19
Seiten	180-91