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Plasma formation in a pseudospark discharge

Choi, P.; Chuaqui, H.; Lunney, J.; Reichle, R.; Davies, A. J.; Mittag, K.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Datenverarbeitung in der Technik (IDT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 1989
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen-ID: 120026095
HGF-Programm 12.02.04 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in IEEE Transactions on Plasma Science
Band 17
Seiten 770-74
Erscheinungsvermerk 13th Internat.Symp.on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum (13th ISDEIV), Paris, F, June 27-30, 1988
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