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Plasma formation in a pseudospark discharge

Choi, P.; Chuaqui, H.; Lunney, J.; Reichle, R.; Davies, A.J.; Mittag, K.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Datenverarbeitung in der Technik (IDT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 1989
Sprache Deutsch
Identifikator KITopen ID: 120026095
HGF-Programm 12.02.04; LK 01
Erschienen in IEEE Transactions on Plasma Science
Band 17
Seiten 770-74
Erscheinungsvermerk 13th Internat.Symp.on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum (13th ISDEIV), Paris, F, June 27-30, 1988
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