Plasma formation in a pseudospark discharge

Choi, P.; Chuaqui, H.; Lunney, J.; Reichle, R.; Davies, A. J.; Mittag, K.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Datenverarbeitung in der Technik (IDT)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	1989
Sprache	Deutsch
Identifikator	KITopen-ID: 120026095
HGF-Programm	12.02.04 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in	IEEE Transactions on Plasma Science
Band	17
Seiten	770-74
Erscheinungsvermerk	13th Internat.Symp.on Discharges and Electrical Insulation in Vacuum (13th ISDEIV), Paris, F, June 27-30, 1988