Requirements on resist layers in deep-etch synchrotron radiation lithography
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 1989 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 120026382 |
| HGF-Programm | 16.01.04 (Vor POF, LK 01) |
| Erschienen in | Journal of Vacuum Science and Technology B |
| Band | 6 |
| Seiten | 2264-67 |
| Erscheinungsvermerk | 32nd Internat.Symp.on Electron, Ion and Photon Beams, Fort Lauderdale, Fla., May 31 - June 3, 1988,(1988) |