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Requirements on resist layers in deep-etch synchrotron radiation lithography

Mohr, J.; Ehrfeld, W.; Muenchmeyer, D.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 1989
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 120026382
HGF-Programm 16.01.04; LK 01
Erschienen in Journal of Vacuum Science and Technology B
Band 6
Seiten 2264-67
Erscheinungsvermerk 32nd Internat.Symp.on Electron, Ion and Photon Beams, Fort Lauderdale, Fla., May 31 - June 3, 1988,(1988)
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