Modification of oxide films by ion implantation: TiO₂-films modified by Ti⁺ and O⁺ as example

Schultze, J. W.; Elfenthal, L.; Leitner, K.; Meyer, O.

Seitenaufrufe: 16
seit 13.06.2019

Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Nukleare Festkörperphysik (INFP)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	1988
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 120026443
Erschienen in	Electrochimica Acta
Band	33
Seiten	911-25