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The simulation of radiation damage in oxide films by ion implantation

Elfenthal, L.; Schultzte, J.W.; Meyer, O.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nukleare Festkörperphysik (INFP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 1989
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 120027505
HGF-Programm 13.01.02 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in Corrosion Science
Band 29
Seiten 343-61
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