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Investigation of a 2.45 GHz ECR plasma for ion etching

Eichelberger, M.; Friedrich, L.; Huttel, E.; Wiss, L.



Zugehörige Institution(en) am KIT Hauptabteilung Zyklotron (HZY)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 1992
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 120030725
HGF-Programm 90; LK 01
Erschienen in Review of Scientific Instruments
Band 63
Seiten 2394-96
Erscheinungsvermerk 4th Internat.Conf.on Ion Sources, Bensheim, September 30 - October 4, 1991
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