Investigation of a 2.45 GHz ECR plasma for ion etching
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Hauptabteilung Zyklotron (HZY) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 1992 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 120030725 |
| HGF-Programm | 90 (Vor POF, LK 01) |
| Erschienen in | Review of Scientific Instruments |
| Band | 63 |
| Seiten | 2394-96 |
| Erscheinungsvermerk | 4th Internat.Conf.on Ion Sources, Bensheim, September 30 - October 4, 1991 |