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Radiation damage in pure and Al-doped Li₄SiO₄

Noda, K.; Ishii, Y.; Nakazawa, T.; Matsui, H.; Igawa, N.; Vollath, D.; Ohno, H.; Watanabe, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 1992
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 120031578
HGF-Programm 31.06.02; LK 01
Erschienen in Journal of Nuclear Materials
Band 191-194
Seiten 248-52
Erscheinungsvermerk Proc.of the 5th Internat.Conf.on Fusion Reactor Materials (ICFRM-5), Clearwater, Fla., November 17-22, 1991, Part A
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