Radiation damage in pure and Al-doped Li₄SiO₄

Noda, K.; Ishii, Y.; Nakazawa, T.; Matsui, H.; Igawa, N.; Vollath, D.; Ohno, H.; Watanabe, H.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	1992
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 120031578
HGF-Programm	31.06.02 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in	Journal of Nuclear Materials
Band	191-194
Seiten	248-52
Erscheinungsvermerk	Proc.of the 5th Internat.Conf.on Fusion Reactor Materials (ICFRM-5), Clearwater, Fla., November 17-22, 1991, Part A