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Adhesion problems in deep-etch X-ray lithography caused by fluorescence radiation from the plating base

Pantenburg, F.J.; Chlebek, J.; El-Kholi, A.; Huber, H.L.; Mohr, J.; Oertel, H.K.; Schulz, J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 1994
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 120033850
HGF-Programm 41.01.02; LK 01
Erschienen in Microelectronic Engineering
Band 23
Seiten 223-26
Erscheinungsvermerk Maastricht, NL, September 27-29, 1993 (Poster)
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