Chemical vapour deposition of hafnium carbide and characterization of the deposited layers by secondary-neutral mass spectrometry
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Radiochemie (IRCH) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 1994 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 120036633 |
| HGF-Programm | 22.01.08 (Vor POF, LK 01) |
| Erschienen in | Thin Solid Films |
| Band | 241 |
| Seiten | 356-60 |