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Chemical vapour deposition of hafnium carbide and characterization of the deposited layers by secondary-neutral mass spectrometry

Ache, H.J.; Goschnick, J.; Sommer, M.; Emig, G.; Schoch, G.; Wormer, O.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Radiochemie (IRCH)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 1994
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 120036633
HGF-Programm 22.01.08 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in Thin Solid Films
Band 241
Seiten 356-60
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