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Organically modified SiO₂ and Al₂O₃ films as selective components for gas sensors

Althainz, P.; Dahlke, A.; Frietsch-Klarhof, M.; Goschnick, J.; Ache, H.J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Radiochemie (IRCH)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 1995
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 120037707
HGF-Programm 41.03.01 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in Physica status solidi (a)
Band 145
Seiten 611-18
Erscheinungsvermerk (1994)
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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