Organically modified SiO₂ and Al₂O₃ films as selective components for gas sensors
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Institut für Radiochemie (IRCH) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 1995 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 120037707 |
| HGF-Programm | 41.03.01 (Vor POF, LK 01) |
| Erschienen in | Physica status solidi (a) |
| Band | 145 |
| Seiten | 611-18 |
| Erscheinungsvermerk | (1994) |