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The modification of mechanical properties and adhesion of boron carbide sputtered films by ion implantation

Chiang, C. I.; Meyer, O.; Silva, R. M. C. da


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nukleare Festkörperphysik (INFP)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 1996
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 120040109
HGF-Programm 34.01.02 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in Nuclear Instruments and Methods B
Band 117
Seiten 408-14
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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