| Zugehörige Institution(en) am KIT | ITC – Bereich Chemisch-Physikalische Verfahren (ITC-CPV) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 1999 |
| Sprache | Deutsch |
| Identifikator | KITopen-ID: 120045754 |
| HGF-Programm | 21.14.01 (Vor POF, LK 01) |
| Erschienen in | Galvanotechnik |
| Band | 90 |
| Seiten | 1993-96 |