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Thermodynamic modeling of Al-Cr-N thin film systems grown by PVD

Kunisch, C.; Loos, R.; Stüber, M.; Ulrich, S.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung (IMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 1999
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 120046775
HGF-Programm 42 (Vor POF, LK 01)
Erschienen in Zeitschrift für Metallkunde
Band 90
Seiten 847-52
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