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Adsorption kinetic of enolase on silicon studied by in situ ellipsometry and wet AFM

Almeida, A.T.; Gliemann, H.; Schimmel, T.; Petri, D.F.S.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Nanotechnologie (INT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2004
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 120058852
HGF-Programm 42.02.02 (POF I, LK 01)
Erschienen in Acta Microscopica
Band 12
Seiten 41-44
Erscheinungsvermerk (2003) Suppl.A
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