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Nanopatterning: commercial and technological promise

Eijkel, K.; Hruby, J.; Kubiak, G.; Scott, M.; Saile, V.; Walsh, S.


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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1117/1.2185657
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2006
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 120064662
HGF-Programm 43.04.04 (POF I, LK 01) Photonische Systeme
Erschienen in Journal of Microlithography
Band 5
Seiten 011001/1-2
Erscheinungsvermerk Microfabrication, and Microsystems
Nachgewiesen in Dimensions
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