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Electronic micro nose equipped with nano-structured gas sensitive SnO₂ layer

Schumacher, B.; Ochs, R.; Tröße, H.; Schlabach, S. ORCID iD icon; Bruns, M.; Szabo, D. V. ORCID iD icon; Haußelt, J.


Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Materialforschung - Werkstoffprozesstechnik (IMF3) (IMF3)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2006
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 120065240
HGF-Programm 43.03.02 (POF I, LK 01) Größenabhängige Eigenschaften
Erschienen in MST News
Heft 4
Seiten 10-12
Erscheinungsvermerk (2006)
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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