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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1016/j.phpro.2010.11.095
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Zitationen: 1

Electron beam lithography of free-standing Ni-Mn-Ga films

Schmitt, M.; Ohtsuka, M.; Kohl, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2010
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 1875-3884, 1875-3892
KITopen-ID: 120083677
HGF-Programm 43.13.01 (POF II, LK 01)
Erschienen in Physics procedia
Band 10
Seiten 174-181
Nachgewiesen in Scopus
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