KIT | KIT-Bibliothek | Impressum

study of physical and chemical elektrophysical properties and gas sensitive characteristics of SiO₂-SnOₓ-CuOsub(y) nanocomposite films (in russ.Sprache)

Petrov, V.; Nazarova, T.N.; Kopilova, N.F.; Zabluda, O.V.; Kisilev, I.; Bruns, M.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Angewandte Materialien - Werkstoffprozesstechnik (IAM-WPT)
Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2010
Sprache Russisch
Identifikator ISSN: 1684-6419, 1813-8586
KITopen ID: 120085160
HGF-Programm 43.12.01; LK 01
Erschienen in Nano- i mikrosistemnaja technika
Band 121
Heft 8
Seiten 15-21
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft KITopen Landing Page