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Simulation and experimental study of the effects of process factors on the uniformity of the residual layer thickness in hot embossing

Omar, F.; Kolew, A.; Brousseau, E.B.; Hirshy, H.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Mikrostrukturtechnik (IMT)
Karlsruhe Nano Micro Facility (KNMF)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2013
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 2166-0468
KITopen ID: 120091428
HGF-Programm 43.13.02; LK 01
Erschienen in Journal of Micro- and Nano-Manufacturing
Band 1
Heft 2
Seiten 021002/1-10
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