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Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/cnma.201500031
Web of Science
Zitationen: 13

Monolithic crystalline MOF coating: An excellent patterning and photoresist material

Wang, Z.; Liu, J.; Grosjean, S.; Wagner, D.; Guo, W.; Gu, Z.; Heinke, L.; Gliemann, H.; Bräse, S.; Wöll, C.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Biologische Grenzflächen (IBG)
Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Institut für Organische Chemie (IOC)
Institut für Toxikologie und Genetik (ITG)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 120103754
HGF-Programm 43.22.01; LK 01
Erschienen in ChemNanoMat
Band 1
Seiten 338-345
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