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Monolithic crystalline MOF coating: An excellent patterning and photoresist material

Wang, Z.; Liu, J.; Grosjean, S.; Wagner, D.; Guo, W.; Gu, Z.; Heinke, L.; Gliemann, H.; Bräse, S.; Wöll, C.



Originalveröffentlichung
DOI: 10.1002/cnma.201500031
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Zitationen: 22
Dimensions
Zitationen: 21
Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Biologische Grenzflächen (IBG)
Institut für Funktionelle Grenzflächen (IFG)
Institut für Organische Chemie (IOC)
Institut für Toxikologie und Genetik (ITG)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2015
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 120103754
HGF-Programm 43.22.01 (POF III, LK 01) Functionality by Design
Erschienen in ChemNanoMat
Band 1
Seiten 338-345
Nachgewiesen in Dimensions
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