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Point defect trapping at ¹¹¹In in copper after ion implantation

Echt, O.; Recknagel, E.; Weidinger, A.; Wichert, Th.; Fachbereich Physik, Universitaet Konstanz



Zugehörige Institution(en) am KIT GAST (GAST)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Jahr 1978
Sprache Englisch
Identifikator KITopen ID: 123000715
Erschienen in Hyperfine Interactions
Band 4
Seiten 706-09
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