Point defect trapping at ¹¹¹In in copper after ion implantation

Echt, O.; Recknagel, E.; Weidinger, A.; Wichert, Th.; Fachbereich Physik, Universitaet Konstanz [Hrsg.]

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seit 31.05.2018

Zugehörige Institution(en) am KIT	GAST (GAST)
Publikationstyp	Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr	1978
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 123000715
Erschienen in	Hyperfine Interactions
Band	4
Seiten	706-09