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Point defect trapping at ¹¹¹In in copper after ion implantation

Echt, O.; Recknagel, E.; Weidinger, A.; Wichert, Th.; Fachbereich Physik, Universitaet Konstanz [Hrsg.]


Zugehörige Institution(en) am KIT GAST (GAST)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 1978
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 123000715
Erschienen in Hyperfine Interactions
Band 4
Seiten 706-09
KIT – Die Forschungsuniversität in der Helmholtz-Gemeinschaft
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