Comparison of defect size distributions based on electrical and optical measurement procedures
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Fakultät für Informatik – Institut für Rechnerentwurf und Fehlertoleranz (IRF) |
| Publikationstyp | Buchaufsatz |
| Publikationsjahr | 1997 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | KITopen-ID: 126897 |
| Erscheinungsvermerk | In: Proceedings. Advanced Semiconductor Manufacturing Conference, ASMC, Boston, USA 1997. S. 277-282. |