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Chemical vapor deposition of carbon from methane at various pressures, partial pressures and substrate surface area / reactor volume ratios

Zhang, Wei-Gang; Huettinger, Klaus J.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Chemische Technik (Inst. f. Chem. Tech.)
Publikationstyp Zeitschriftenaufsatz
Publikationsjahr 2002
Sprache Englisch
Identifikator ISSN: 0022-2461
KITopen-ID: 13532002
Erschienen in Journal of materials science
Verlag Springer
Band 36
Heft 14
Seiten 1-8
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