Chemical vapor deposition of carbon from methane at various pressures, partial pressures and substrate surface area / reactor volume ratios
| Zugehörige Institution(en) am KIT | Fakultät für Chemie und Biowissenschaften – Institut für Chemische Technik (Inst. f. Chem. Tech.) |
| Publikationstyp | Zeitschriftenaufsatz |
| Publikationsjahr | 2002 |
| Sprache | Englisch |
| Identifikator | ISSN: 0022-2461 KITopen-ID: 13532002 |
| Erschienen in | Journal of materials science |
| Verlag | Springer |
| Band | 36 |
| Heft | 14 |
| Seiten | 1-8 |