Investigation of Si wafer damage in manufacturing processes (SIDAM) by white beam topography (SXRT)

Wittge, J.; Danilewsky, A.; Hess, A.; Cröll, A.; Allen, D.; McNally, P.; Vagovic, P.; Cecilia, A.; Li, Z. J.; Baumbach, T.; Gorostegui-Colinas, E.; Elizalde, M. R.

Investigation of Si wafer damage in manufacturing processes (SIDAM) by white beam topography (SXRT)

Wittge, J.; Danilewsky, A.; Hess, A.; Cröll, A.; Allen, D.; McNally, P.; Vagovic, P.; Cecilia, A.; Li, Z. J.; Baumbach, T.; Gorostegui-Colinas, E.; Elizalde, M. R.

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Zugehörige Institution(en) am KIT	Institut für Synchrotronstrahlung (ISS)
Publikationstyp	Buchaufsatz
Publikationsjahr	2009
Sprache	Englisch
Identifikator	KITopen-ID: 150077226
HGF-Programm	55.51.20 (POF II, LK 02) Infrastr.u.Betrieb ANKA-Beschleunigeranl
Seiten	122-23
Erscheinungsvermerk	ANKA - Annual Report 2009 Karlsruhe : Karlsruhe Institute of Technology Also publ.online

Repository KITopen

Investigation of Si wafer damage in manufacturing processes (SIDAM) by white beam topography (SXRT)