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Investigation of Si wafer damage in manufacturing processes (SIDAM) by white beam topography (SXRT)

Wittge, J.; Danilewsky, A.; Hess, A.; Cröll, A.; Allen, D.; McNally, P.; Vagovic, P.; Cecilia, A.; Li, Z.J.; Baumbach, T.; Gorostegui-Colinas, E.; Elizalde, M.R.



Zugehörige Institution(en) am KIT Institut für Synchrotronstrahlung (ISS)
Publikationstyp Buchaufsatz
Jahr 2009
Sprache Englisch
Identifikator KITopen-ID: 150077226
HGF-Programm 55.51.20 (POF II, LK 02)
Seiten 122-23
Erscheinungsvermerk ANKA - Annual Report 2009 Karlsruhe : Karlsruhe Institute of Technology Also publ.online
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